उच्च-गतिको दुई-अक्ष ग्याल्भो स्क्यानिङ मिररहरू - UV देखि IR लेजरहरूको लागि ९९.५% भन्दा बढी परावर्तकता भएको हल्का आयताकार डिजाइन

स्क्यानिङ मिररहरू हल्का तौलका आयताकार मिररहरू हुन् जुन उच्च गतिको दुई-अक्ष लेजर स्क्यानिङ प्रणालीहरूको लागि प्रयोग गरिन्छ। प्रत्येक मिररको आयामहरू लेजर बीम आकार अनुसार गणना गरिन्छ। मिरर ९९.५% वा माथिको उच्च परावर्तकताको साथ डिजाइन गरिएको छ। स्क्यानिङ मिरर सामान्यतया स्क्यानिङ उद्देश्यका लागि ग्याल्भानोमिटरमा माउन्ट गरिन्छ। दुई अक्ष स्क्यान मिररहरूको लागि, सामान्यतया Y मिररको X मिररको तुलनामा ठूलो आकार हुन्छ। यो X मिरर वस्तुलाई सिधै नभई Y मिरर स्क्यान गर्न प्रयोग गरिने तथ्यको कारणले हो।

मुख्य विशिष्टताहरू:

• सतहको आकृति: λ/2 @६३३nm
• स्क्र्याच/खन्ने: ४०/२०
• सब्सट्रेट विकल्पहरू: सिलिकन (Si), BK7, फ्युज्ड सिलिका (FS)
• परावर्तक कोटिंगहरू उपलब्ध छन्:
  • इन्फ्रारेड लेजरहरूको लागि सुनको कोटिंग (१०.६μm – CO₂)
  • Nd:YAG लेजरहरूको लागि डाइइलेक्ट्रिक वा चाँदीको कोटिंग (१०६४nm / ६५०nm)
  • हरियो र देखिने लेजरहरूको लागि डाइइलेक्ट्रिक कोटिंग (५३२nm / ६५०nm)
  • UV लेजरहरूको लागि डाइइलेक्ट्रिक कोटिंग (२६६nm / ३५५nm)